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一、3D光刻技术介绍
摩方PµSL是一种微米级精度的3D光刻技术，这一技术利用液态树脂在UV光照下的光聚合作用，使用滚刀快速涂层技术大大降低每层打印的时间，并通过打印平台三维移动逐层累积成型制作出复杂三维器件。
在三维复杂结构微纳加工领域，BMF Material团队拥有超过二十年的科研经验，针对客户在项目研究中可能出现的工艺和材料难题，我们将持续提供简易高效的技术支持方案。
二、3D光刻技术功能介绍
先进的薄膜滚刀涂层技术允许更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能够处理高达20000cps的高粘度树脂，从而生产出耐候性更强、功能更强大的零部件；
能够打印工业级复合聚合物和陶瓷光敏材料，包括与巴斯夫合作开发的全新功能工程材料。
三、微纳3D打印系统打印材料
通用型
丙烯酸类光敏树脂，比如HDDA，PEGDA等。
工业级复合聚合物，例如高粘度树脂、陶瓷浆料等。
个性化
高强度硬性树脂、纳米颗粒掺杂树脂、生物医用树脂等。
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https://www.chem17.com/st443641/product_36278336.html
原文链接：http://www.dtcchina.com/chanpin/show-45825.html，转载和复制请保留此链接。
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