客户的需求：
1、对基材进行垂直、高精度、超低速镀膜
2、以改变提拉角度和溶液的密度对基材进行镀膜
3、两种液体交替对基材进行镀膜
4、在提拉途中，通过改变提拉速度来控制膜厚
ND-0407-S5能够满足客户的需求：
1、可以提供超低速的常规垂直镀膜
2、可以通过调整θθ角来获取提拉角度
3、可以采用不同的液体（例如交替吸附等）进行镀膜
4、双轴可独立运动和复合运动操作
5、具有可以连续点运行的新功能
ND-0407-S5的产品特点：
1、可以对玻璃、有机玻璃、铜箔、管状材料等基材以纳米速度（变速单位：1nm）进行浸渍镀膜。
2、适用于纳米级薄膜、蛋白石薄膜的形成和粒子阵列的生成等。
3、采用触控面板操作方式，在触控面板上，可以轻松完成设置速度变化点(多16个点)、速度变化(以1nm为单位)、重复运动、运动模式记忆(多8个模式)的操作。
4、双轴同步操作和单轴单独运行操作都可以轻松完成。
5、触控面板采用日语、英语两种语言，且可以一键式切换。
ND-0407-S5的应用：
主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。
https://www.chem17.com/st1934/product_34292220.html
http://www.bj-edcc.com/Products-34292220.html
原文链接：http://www.dtcchina.com/hangqing/show-22109.html，转载和复制请保留此链接。
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