工作温度：5~45?C
zui大压力:3x106 Pa
精度:±1.5%FS
线性:±（0.5-1.5）%F.S
重复精度:±0.2%F.S.
流量范围:
一路:1~199 SCCM
二路:1~499 SCCM
PECVD注意：其他流量范围的可定制，需额外费用
化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL200D50-5Z双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温；PLC控制5路质子流量器，能够精确控制系统的供气；真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD（化学气象沉积系统）常用于表面材料生长、沉积，是一款实验室常用设备技术参数
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